Substrati di Nitruru di Galiu|GaN Wafers

Descrizione breve:

Nitruru di Gallium (GaN), cum'è i materiali di carburu di siliciu (SiC), appartene à a terza generazione di materiali semiconduttori cù larghezza di banda larga, larga larghezza di banda larga, alta conduttività termica, alta rata di migrazione di saturazione di l'elettroni, è altu campu elettricu eccezziunale. caratteristiche.I dispositi GaN anu una larga gamma di prospettive d'applicazione in campi di alta frequenza, alta velocità è alta dumanda di putenza, cum'è l'illuminazione LED à risparmiu energeticu, a visualizazione di proiezione laser, i veiculi d'energia novi, a rete intelligente, a cumunicazione 5G.


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Wafers GaN

I materiali semiconductor di terza generazione includenu principalmente SiC, GaN, diamanti, etc., perchè a so larghezza di banda (Eg) hè più grande o uguale à 2,3 electron volts (eV), cunnisciuti ancu com'è materiali semiconduttori di banda larga.In cunfrontu cù i materiali semiconduttori di a prima è a seconda generazione, i materiali semiconduttori di a terza generazione anu i vantaghji di una alta conductività termale, un altu campu elettricu di rottura, un altu ritmu di migrazione di l'elettroni saturati è una alta energia di legame, chì ponu risponde à i novi bisogni di a tecnulugia elettronica muderna per alta. temperatura, alta putenza, alta pressione, alta frequenza è resistenza à a radiazione è altre cundizioni duru.Hà prospettive d'applicazione impurtanti in i campi di a difesa naziunale, l'aviazione, l'aerospaziale, l'esplorazione di petroliu, l'almacenamiento otticu, etc., è pò riduce a perdita di energia di più di 50% in parechje industrie strategiche cum'è cumunicazioni in banda larga, energia solare, fabricazione di l'automobile, illuminazione semiconductor, è griglia inteligente, è pò riduce u voluminu di l'equipaggiu da più di 75%, chì hè di significatu impurtante per u sviluppu di a scienza è a tecnulugia umana.

 

Item 项目

GaN-FS-CU-C50

GaN-FS-CN-C50

GaN-FS-C-SI-C50

Diamitru
晶圆直径

50,8 ± 1 mm

Spessore厚度

350 ± 25 μm

Orientazione
晶向

Pianu C (0001) off angle versus M-axis 0,35 ± 0,15 °

Primu Flat
主定位边

(1-100) 0 ± 0,5 °, 16 ± 1 mm

Pianu Sicundariu
次定位边

(11-20) 0 ± 3 °, 8 ± 1 mm

Conductivity
导电性

Tipu N

Tipu N

Semi-isolante

Resistività (300K)
电阻率

< 0,1 Ω·cm

< 0,05 Ω·cm

> 106 Ω·cm

TTV
平整度

≤ 15 μm

ARCU
弯曲度

≤ 20 μm

Ga Rugosità di a superficia di a faccia
Ga面粗糙度

< 0,2 nm (pulitu);

o < 0,3 nm (trattamentu lucidatu è di superficia per epitassi)

N Rugosità di a superficia di a faccia
N面粗糙度

0,5 ~ 1,5 μm

opzione: 1 ~ 3 nm (terra fine);< 0,2 nm (lucidatu)

Densità di dislocazione
位错密度

Da 1 x 105 à 3 x 106 cm-2 (calculatu da CL)*

Densità di difetti macro
缺陷密度

< 2 cm-2

Zona utilizzabile
有效面积

> 90% (esclusione di difetti di u bordu è macro)

Pò esse persunalizatu secondu i bisogni di u cliente, struttura diversa di siliciu, zaffiro, foglia epitaxial GaN basatu in SiC.

Semicera Locu di travagliu Semicera postu di travagliu 2 Macchina di l'equipaggiu Trattamentu CNN, pulizia chimica, rivestimentu CVD U nostru serviziu


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