I materiali semiconduttori di a terza generazione includenu principalmente SiC, GaN, diamanti, etc., perchè a so larghezza di banda (Eg) hè più grande o uguale à 2,3 electron volts (eV), cunnisciuti ancu com'è materiali semiconduttori di banda larga. In cunfrontu cù i materiali semiconduttori di a prima è a seconda generazione, i materiali semiconduttori di a terza generazione anu i vantaghji di una alta conduttività termale, un altu campu elettricu di rottura, un altu tassu di migrazione di l'elettroni saturati è una alta energia di legame, chì ponu risponde à i novi bisogni di a tecnulugia elettronica muderna per un altu livellu. temperatura, alta putenza, alta pressione, alta frequenza è resistenza à a radiazione è altre cundizioni duru. Hà prospettive d'applicazione impurtanti in i campi di a difesa naziunale, l'aviazione, l'aerospaziale, l'esplorazione di petroliu, l'almacenamiento otticu, etc., è pò riduce a perdita di energia di più di 50% in parechje industrie strategiche cum'è cumunicazioni in banda larga, energia solare, fabricazione di l'automobile, illuminazione semiconductor, è griglia inteligente, è pò riduce u voluminu di l'equipaggiu da più di 75%, chì hè di significatu impurtante per u sviluppu di a scienza è a tecnulugia umana.
Item 项目 | GaN-FS-CU-C50 | GaN-FS-CN-C50 | GaN-FS-C-SI-C50 |
Diamitru | 50,8 ± 1 mm | ||
Spessore厚度 | 350 ± 25 μm | ||
Orientazione | Pianu C (0001) off angle versus M-axis 0,35 ± 0,15 ° | ||
Primu Flat | (1-100) 0 ± 0,5 °, 16 ± 1 mm | ||
Pianu Sicundariu | (11-20) 0 ± 3 °, 8 ± 1 mm | ||
Conductivity | Tipu N | Tipu N | Semi-isolante |
Resistività (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106 Ω·cm |
TTV | ≤ 15 μm | ||
ARCU | ≤ 20 μm | ||
Ga Rugosità di a superficia di a faccia | < 0,2 nm (pulitu); | ||
o < 0,3 nm (trattamentu lucidatu è di superficia per epitassi) | |||
N Rugosità di a superficia di a faccia | 0,5 ~ 1,5 μm | ||
opzione: 1 ~ 3 nm (terra fine); < 0,2 nm (lucidatu) | |||
Densità di dislocazione | Da 1 x 105 à 3 x 106 cm-2 (calculatu da CL)* | ||
Densità di difetti macro | < 2 cm-2 | ||
Zona utilizzabile | > 90% (esclusione di difetti di u bordu è macro) | ||
Pò esse persunalizatu secondu i bisogni di u cliente, struttura diversa di siliciu, zaffiro, foglia epitaxial GaN basatu in SiC. |