Susceptor di Grafite cù Revestimentu di Carburu di Siliciu, Carrier Wafer

U revestimentu CVD-SiC hà e caratteristiche di struttura uniforme, materiale compactu, resistenza à alta temperatura, resistenza à l'ossidazione, alta purità, resistenza à l'acidu è alcali è reagenti organici, cù proprietà fisiche è chimiche stabili.
In cunfrontu cù i materiali di grafite d'alta purezza, u grafitu cumencia à oxidize à 400C, chì pruvucarà una perdita di polvere per l'ossidazione, risultatu in a contaminazione ambientale à i dispositi periferichi è e camere di vacuum, è aumentanu impurità di l'ambiente di alta purezza.
Tuttavia, u revestimentu SiC pò mantene a stabilità fisica è chimica à 1600 gradi, hè largamente utilizatu in l'industria muderna, in particulare in l'industria di i semiconduttori.