Carburu di tantalu poroso, materiale di campu caldu per a crescita di cristalli SiC

Descrizione breve:

U carburu di tantalu poroso hè principarmenti utilizatu per a filtrazione di cumpunenti in fase di gas, aghjustendu u gradiente di temperatura lucale, guidà a direzzione di u flussu di materiale, cuntrullà a fuga, etc. Pò esse usatu cù un altru carburu di tantalu solidu (compact) o un revestimentu di carburu di tantalu da Semicera Technology per furmà cumpunenti lucali. cun conductance di flussu differente.

 


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Semicera furnisce rivestimenti specializati di carburu di tantalu (TaC) per vari cumpunenti è trasportatori.U prucessu di rivestimentu di punta di Semicera permette à i rivestimenti di carburu di tantalu (TaC) per ottene una alta purezza, stabilità à alta temperatura è alta tolleranza chimica, migliurà a qualità di u produttu di cristalli SIC / GAN è strati EPI (Susceptor TaC rivestitu di grafite), è allargendu a vita di i cumpunenti chjave di u reattore. L'usu di u revestimentu di carburu di tantalu TaC hè di risolviri u prublema di u bordu è di migliurà a qualità di a crescita di cristalli, è Semicera hà avanzatu risolviu a tecnulugia di rivestimentu di carburu di tantalu (CVD), ghjunghje à u livellu avanzatu internaziunale.

 

Dopu à anni di sviluppu, Semicera hà cunquistatu a tecnulugia diCVD TaCcù i sforzi cumuni di u dipartimentu R&D. I difetti sò faciuli à accade in u prucessu di crescita di wafers SiC, ma dopu l'usuTaC, a diferenza hè significativa. Quì sottu hè un paragone di wafers cù è senza TaC, è ancu di parti di Semicera per a crescita di cristalli unichi.

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cù è senza TaC

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Dopu aduprà TaC (diritta)

In più, a vita di serviziu di i prudutti di rivestimentu TaC di Semicera hè più longu è più resistente à a temperatura alta di quellu di u rivestimentu SiC. Dopu un longu tempu di dati di misurazione di laboratoriu, u nostru TaC pò travaglià per un bellu pezzu à un massimu di 2300 gradi Celsius. Eccu alcuni di i nostri campioni:

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(a) Schema schematicu di u dispositivu di crescita di lingotti di cristallo SiC per u metudu PVT (b) Supportu di sementi rivestiti di TaC superiore (cumprese a semente di SiC) (c) Anellu di guida di grafite rivestitu di TAC

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